第二十章 真空镀膜（上）

介绍道：

    “这个是晶振装置，探头处装有晶振片，用来实时检测蒸镀的薄膜厚度。它的位置一定不能乱动，因为现在的参数是已经标定过的，如果移动了它的位置，对膜厚的检测结果就不标准了。此外晶振片也是有寿命的，所以需要定期更换晶振片，并重新标定厚度。”

    舱体最上面是一块大的圆形金属挡板，以及一个可以旋转的样品台。

    “上面这个肯定是样品台了，为什么下面要加装一块金属挡板呢？”许秋问道。

    “这块金属挡板叫做样品挡板，当他处于开启状态时，可以有效阻挡气体分子沉积在样品表面。因此，我们可以利用它，控制蒸镀的开始和结束时间，得到精确的厚度。”陈婉清道。

    将舱内情况了解完毕后，许秋开始做蒸镀前的准备工作。

    两批基片的器件结构不同，需要分两次进行蒸镀。

    第一批是正常结构，也就是蒸镀钙和铝。

    许秋首先在钨篓中装满99.995%纯度的铝锭，然后让学姐帮忙打开钙束源炉的挡板。

    挡板的开关是数控的，需要在手套箱外的总控台操作。

    打开挡板后，他取出束源炉内部的陶瓷坩埚，将上次使用后剩余的残渣倒出，再加入两勺新的99.995%纯度的钙粉末。

    陶瓷坩埚是特质的，可以至少承受1000摄氏度以上的高温，且十分稳定，不会与靶材反应，产生杂质。

    完成后，他让学姐关闭束源炉挡板。

    最后，他将一片片基片正面朝下放置在样品支架上，再将样品支架放回样品台。

    “学姐，没有问题吧，可以关舱门了吗。”许秋看向陈婉清。

    “嗯嗯。”陈婉清点点头。

    许秋将舱门从右往左推回原位，然后旋转舱门上下的两个旋钮，直至无法转动为止。

    ……

    许秋离开手套箱，和学姐一同来到总控台，因为剩下的操作主要在总控台完成。

    总控台接近两米高，由十几个模块拼接而成，一共有30多个控制按钮。

    “旁边有操作说明，严格按照说明来做就行。”陈婉清道。

    许秋拿起《真空镀膜仪使用说明》翻看，只有两页A4纸，并没有想象中的多。

    他表面上在看说明书，实则在心中查看系统。

    系统已经将学姐的技能复制了，可以看到每步操作的细节，所以文字版的说明书意义已然不大。

    “我看完了。”许秋道。

    “这么快？”陈婉清道：“行，那你来操作吧，有什么问题我会提醒你的。”

    第一步是打开循环水系统和空气泵。

    前者用来冷却分子泵，而后者用来推动样品挡板。

    许秋找到位于总控台后面的循环水装置，按下绿色的启动键，便听到仪器发出嗡鸣声，仔细听的话还有水流声。

    然后，他走到空气泵旁边。

    空气泵上有一个橙红色的瓶盖大小的开关，需要拉起来，才能启动机器。

    许秋试着向上拉，开关却纹丝不动，他也不敢太用力，便说道：

    “学姐，怎么弄。”

    “用力弄啊。”

    “砰！”